使用电子束或ＥＵＶ射线之有机溶剂显影或多次显影图案形成法;ORGANIC SOLVENT DEVELOPMENT OR MULTIPLE DEVELOPMENT PATTERN-FORMING METHOD USING ELECTRON BEAMS OR EUV RAYS

摘要

提供一种图案形成法，其以下列顺序包括：(1)一种以光化射线敏感性或放射线敏感性树脂组成物形成薄膜之制程，该组成物包含含酸可分解的重复单元且能够经酸作用降低于有机溶剂之溶解度之树脂；(2)一种以电子束或EUV射线曝光薄膜之制程；及(4)一种以含有有机溶剂之显影剂显影薄膜之制程。; (2) a process of exposing the film with an electron beam or an EUV ray; and (4) a process of developing the film with a developer containing an organic solvent.