发明名称 薄膜电晶体及其制造方法;THIN FILM TRANSISTOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
摘要 一种薄膜电晶体,包括:一基材、一闸极、一缓冲层、一闸绝缘层、一主动层、一蚀刻停止层、一源极、与一汲极。该闸极形成于该基材上。该缓冲层部分地覆盖该闸极的两个边部分(side portion)。该闸绝缘层覆盖该闸极及该缓冲层。该主动层形成于该闸绝缘层上。该蚀刻停止层形成于该主动层上,且具有一第一开口及一第二开口于该主动层上。该源极形成于该蚀刻停止层上,且经由该第一开口与该主动层接触。该汲极形成于该蚀刻停止层上,且经由该第二开口与该主动层接触。
申请公布号 TW201505187 申请公布日期 2015.02.01
申请号 TW103124516 申请日期 2014.07.17
申请人 三星显示器有限公司 发明人 金正培;郑宝容;李海衍;金容载
分类号 H01L29/786(2006.01);H01L21/336(2006.01) 主分类号 H01L29/786(2006.01)
代理机构 代理人 陈翠华
主权项
地址 南韩