| 摘要 |
本发明揭示之多数具体实施例包含用于在一处理腔室中进行电浆处理的方法与设备，该方法与设备使用一射频电力供应器，该射频电力供应器透过一匹配网路耦合至该处理腔室。在某些具体实施例中，该方法包括当该匹配网路系于保持模式时，由该射频电力供应器以一第一频率提供射频电力至该处理腔室，在一第一时间期间利用该射频电力供应器将该第一频率调整成为一第二频率，以点燃该电浆，在一第二时间期间利用该射频电力供应器将该第二频率调整成为一已知的第三频率，同时维持该电浆，以及将该匹配网路之一操作模式改变成为一自动调整模式，以减少由该射频电力供应器所提供之射频电力的反射电力。 |
