发明名称 使用绕射为基础之叠对的多重叠对误差之同时测量
摘要
申请公布号 TWI471704 申请公布日期 2015.02.01
申请号 TW100148097 申请日期 2011.12.22
申请人 耐诺股份有限公司 发明人 李杰
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种同时测量一结构中之n个叠对误差之方法,该方法包括:用入射辐射照射一目标,该目标具有复数个绕射为基础之叠对衬垫,每一绕射为基础之叠对衬垫具有一m数目个周期性图案,其中n2且m=n+1,且其中该目标包括:一第一绕射为基础之叠对衬垫,其具有位于该m数目个周期性图案中每一对周期性图案之间的一经程式化移位;及每一剩余的绕射为基础之叠对衬垫具有与该第一绕射为基础之叠对衬垫相同的对于每一对周期性图案之一经程式化移位,惟具有与该第一绕射为基础之叠对衬垫中对应的一对周期性图案不同的一经程式化移位的唯一一对周期性图案除外,其中具有该不同的经程式化移位之该唯一一对周期性图案对于该等剩余的绕射为基础之叠对衬垫中之每一者系不同的;在该入射辐射与该复数个绕射为基础之衬垫互动之后侦测来自该目标之辐射;及使用来自该复数个绕射为基础之叠对衬垫中之不同的对之该所侦测的辐射之多个差分信号而基于每一对周期性图案之间的该经程式化移位来同时判定该n个叠对误差。
地址 美国