防护胶膜框架及微影用防护胶膜,申请号TW099120416-传众专利搜索

发明名称	防护胶膜框架及微影用防护胶膜
摘要
申请公布号	TWI471685	申请公布日期	2015.02.01
申请号	TW099120416	申请日期	2010.06.23
申请人	信越化学工业股份有限公司;英特尔股份有限公司	发明人	白崎享;札克拉伯帝　契卓列;穆雪尔　大卫;吴少怡
分类号	G03F1/62	主分类号	G03F1/62
代理机构		代理人	何金涂台北市大安区敦化南路2段77号8楼;丁国隆台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项	一种防护胶膜框架，其特征为：防护胶膜框架杆之剖面，系在上边与下边平行且剖面积为20mm2以下之矩形之两侧边具有不包含该上边与该下边且包含曲线之凹陷部的形状。
地址	美国