发明名称 记忆元件及记忆装置
摘要
申请公布号 TWI472018 申请公布日期 2015.02.01
申请号 TW098128383 申请日期 2009.08.24
申请人 新力股份有限公司 发明人 水口彻也;保田周一郎;佐佐木智;山田直美
分类号 H01L27/10 主分类号 H01L27/10
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种记忆元件,其特征为,在第1电极与第2电极之间,具备:由至少含有Te之氧化物所形成的高电阻层;和至少含有一种类金属元素、与Te、S及Se当中之至少一种类硫属元素的离子源层;前记高电阻层系含Al;于前记高电阻层中,相对于Te是30~100原子%,Al系以0~70原子%之范围而被含有。
地址 日本