发明名称 | 真空装置、真空处理系统及真空室之压力控制方法 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI471896 | 申请公布日期 | 2015.02.01 |
申请号 | TW097150691 | 申请日期 | 2008.12.25 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 锅山裕树 |
分类号 | H01L21/00;H01L21/67;G05D16/02 | 主分类号 | H01L21/00 |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 | |
主权项 | 一种真空装置,具备藉由自气体供给源所供给之作动用气体而作动之闸阀,和藉由上述闸阀被维持真空状态之真空室,其特征为:具备为了将外部气体导入至上述真空室内,被贯通形成于该真空室之壁的连通孔;和一端侧被连接于上述连通孔,另一端形成有真空泄漏用埠之配管;和被配置在上述配管,藉由依自上述作动用气体之供给路径分歧的供给路径而被供给之第1控制用气体来进行开关,切换导入来自上述真空泄漏用埠之外部气体的第1开关机构,上述第1开关机构系当上述第1控制用气体之供给压力成为特定压力以下时则被开启,使外部气体从上述真空泄漏用埠导入至上述真空室。 | ||
地址 | 日本 |