发明名称 真空装置、真空处理系统及真空室之压力控制方法
摘要
申请公布号 TWI471896 申请公布日期 2015.02.01
申请号 TW097150691 申请日期 2008.12.25
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 锅山裕树
分类号 H01L21/00;H01L21/67;G05D16/02 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种真空装置,具备藉由自气体供给源所供给之作动用气体而作动之闸阀,和藉由上述闸阀被维持真空状态之真空室,其特征为:具备为了将外部气体导入至上述真空室内,被贯通形成于该真空室之壁的连通孔;和一端侧被连接于上述连通孔,另一端形成有真空泄漏用埠之配管;和被配置在上述配管,藉由依自上述作动用气体之供给路径分歧的供给路径而被供给之第1控制用气体来进行开关,切换导入来自上述真空泄漏用埠之外部气体的第1开关机构,上述第1开关机构系当上述第1控制用气体之供给压力成为特定压力以下时则被开启,使外部气体从上述真空泄漏用埠导入至上述真空室。
地址 日本