用于基板处理腔室的冷却遮蔽件

主权项

一种用以在一基板处理腔室中环绕一溅射靶材的上遮蔽件，该溅射靶材具有一倾斜周长边缘，该上遮蔽件包含：(a)一顶环，其包含一径向内凸块，该凸块具有一拱形表面用以环绕该溅射靶材的该倾斜周长边缘；(b)一支撑支架，其位于顶环下方，该支撑支架径向向外延伸；以及(c)一圆筒状箍，其从该支撑支架向下延伸，并且该圆筒状箍包括：(1)一径向内表面，其具有一倾斜平面以及一实质垂直平面；以及(2)一径向外表面，其具有多个阶梯。