感光性光阻材料用显影液及使用此显影液之图案形成方法;DEVELOPER FOR PHOTOSENSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERNING PROCESS

摘要

一种感光性光阻材料用显影液，含有通式(1)表示之氢氧化铵。;(R 1 为烷基、烯基、炔基、芳基、芳烷基、芳烯基、杂环基、或NR2基，也可将该等组合。R 2 为氢原子或甲基，R 3 为亚甲基或伸乙基，R 4 ~R 6 为烷基或苄基，X为氧原子、硫原子、酯基、硫酯基、或NH基。);藉由使用本发明之显影液进行显影，可抑制感光性光阻材料、尤其化学增幅正型光阻材料所形成之光阻膜之显影中之膨润，并可抑制图案崩塌或桥接缺陷之发生，获得边缘粗糙度小的图案。