| 发明名称 |
光阻组成物之制造方法;METHOD FOR PRODUCING RESIST COMPOSITION |
| 摘要 |
本发明提供：减少用于浸润曝光、双重图案化、有机溶剂显影等的光阻组成物之涂布缺陷，尤其减少含矽光阻下层膜之涂布缺陷的光阻组成物制造方法。一种光阻组成物之制造方法，其系藉由将半导体装置之制造步骤中使用的光阻组成物以滤器进行过滤而予以制造的方法，其特征为：使用在利用有机溶剂之萃取中每单位滤器表面积(m2)之溶出物之重量为5mg以下之滤器作为该滤器而进行过滤。 |
| 申请公布号 |
TW201504772 |
申请公布日期 |
2015.02.01 |
| 申请号 |
TW103115987 |
申请日期 |
2014.05.05 |
| 申请人 |
信越化学工业股份有限公司 |
发明人 |
荻原勤;美谷岛佑介;岩渊元亮;森泽拓 |
| 分类号 |
G03F7/26(2006.01);B01D37/00(2006.01);G03F7/004(2006.01);G03F7/075(2006.01);G03F7/11(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/26(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
周良谋周良吉 |
| 主权项 |
|
| 地址 |
日本 |
