| 发明名称 |
光阻下层膜形成组成物;RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION |
| 摘要 |
本发明的课题系提供一新颖光阻下层膜形成组成物。;解决课题之手段为一种包含聚合物及溶剂的光阻下层膜形成组成物，其中所述聚合物系具有下述式(1)所表示的结构单元，(式中，X 1 系表示可经卤素基、硝基、胺基或羟基取代的具有至少1个芳香环的碳原子数6至20的二价有机基，X 2 系表示可经卤素基、硝基、胺基或羟基取代的具有至少1个芳香环的碳原子数6至20的有机基、或甲氧基)。 |
| 申请公布号 |
TW201504766 |
申请公布日期 |
2015.02.01 |
| 申请号 |
TW103113545 |
申请日期 |
2014.04.14 |
| 申请人 |
日产化学工业股份有限公司 |
发明人 |
桥本圭佑;西卷裕和;新城彻也;染谷安信;柄泽凉;坂本力丸 |
| 分类号 |
G03F7/11(2006.01);C08G61/10(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/11(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
|
| 地址 |
日本 |
