发明名称 一种磁高密沉淀装置
摘要 本实用新型属于废水处理领域,特别涉及一种磁高密沉淀装置。该磁高密沉淀装置包括快速混合区5、慢速混合区7、磁高密沉淀区8,快速混合区5、慢速混合区7、磁高密沉淀区8依次连接,快速混合区5由混合池23、快速搅拌器6-1、混凝剂投加管2组成,其中混合池23前部设有进水管1,混凝剂投加管2设置在进水管1靠近混合池23一侧。该磁高密沉淀装置具有沉淀速度快、水处理效率高、净化水质更好的特点。
申请公布号 CN204125214U 申请公布日期 2015.01.28
申请号 CN201420435347.4 申请日期 2014.08.04
申请人 四川环能德美科技股份有限公司 发明人 黄光华;史强
分类号 C02F1/48(2006.01)I;C02F1/52(2006.01)I 主分类号 C02F1/48(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种磁高密沉淀装置,其特征在于:该磁高密沉淀装置包括快速混合区 (5)、慢速反应区 (7)、磁高密沉淀区(8),快速混合区(5)、慢速混合区(7)、磁高密沉淀区(8)依次连接,快速混合区(5)由混合池(23)、快速搅拌器(6‑1)、混凝剂投加管(2)组成,其中混合池(23)前部设有进水管(1),混凝剂投加管(2)设置在进水管(1)靠近混合池(23)一侧,且与进水管(1)相通,快速搅拌器(6‑1)固定于混合池(23)中下部,混合池(23)上部还设置有磁种投加管(4);慢速混合区(7)由反应池(24)、慢速搅拌器(6‑2)组成,其中反应池(24)前部设有进水导流板(25),慢速搅拌器(6‑2)固定于反应池(24)中下部,反应池(24)的前端上方安装有助凝剂投加管(3); 磁高密沉淀区(8)为漏斗状,在远离反应池(24)一侧的磁高密沉淀区(8)顶部设置有一道出水隔板(16),出水隔板(16)后设置溢流槽(17),溢流槽(17)与出水管(18)相连,磁高密沉淀区(8)底部有排泥管(14),反应池(24)上部与磁高密沉淀区(8)上部相通。
地址 610041 四川省成都市武侯区武兴一路3号