发明名称 |
黑矩阵结构、掩膜板、彩膜基板及显示装置 |
摘要 |
本发明提供一种黑矩阵结构、掩膜板、彩膜基板及显示装置,属于显示技术领域,其可解决现有的黑矩阵结构在拼接位置处存在误差导致显示不良的问题。本发明的黑矩阵结构包括由多个子黑矩阵拼接组成的像素单元阵列,每个像素单元包括像素开口区和包围像素开口区的黑矩阵图案区,且两相邻所述子黑矩阵拼接形成的拼接线为曲线;其中,所述拼接线包括至少一个弯曲单元,所述弯曲单元在行方向上的最大宽度不小于所述像素单元的宽度,在列方向上的最大高度大于两相邻行所述像素开口区之间的所述黑矩阵图案区的高度。本发明的黑矩阵和掩膜板特别适用于大尺寸的显示装置中。 |
申请公布号 |
CN104317094A |
申请公布日期 |
2015.01.28 |
申请号 |
CN201410432232.4 |
申请日期 |
2014.08.28 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
发明人 |
吴洪江;袁剑峰 |
分类号 |
G02F1/1335(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1335(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
柴亮;张天舒 |
主权项 |
一种黑矩阵结构,其特征在于,包括由多个子黑矩阵拼接组成的像素单元阵列,每个像素单元包括像素开口区和包围像素开口区的黑矩阵图案区,且两相邻所述子黑矩阵拼接形成的拼接线为曲线;其中,所述拼接线包括至少一个弯曲单元,所述弯曲单元在行方向上的最大宽度不小于所述像素单元的宽度,在列方向上的最大高度大于两相邻行所述像素开口区之间的所述黑矩阵图案区的高度。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |