发明名称 |
清洗方法和清洗装置 |
摘要 |
本发明提供清洗方法和清洗装置。在施加处理液来清洗被清洗物的清洗方法中,具有:第1步骤(S3),对所述被清洗物施加包含微纳气泡或纳气泡等较小尺寸的气泡的第1处理液;以及第2步骤(S4),在该第1步骤后,对附着有所述第1处理液的状态下的所述被清洗物施加第2处理液,该第2处理液包含比所述第1处理液所包含的气泡的尺寸大的微气泡等气泡,在利用第1处理液进行清洗后,利用包含比该第1处理液所包含的气泡的尺寸大的气泡的第2处理液进行清洗,所以,能够在使用利用了较小气泡的优良性质的第1处理液进行清洗后,使用利用了较大气泡的优良性质的第2处理液进行清洗。 |
申请公布号 |
CN104307780A |
申请公布日期 |
2015.01.28 |
申请号 |
CN201410408810.0 |
申请日期 |
2011.05.26 |
申请人 |
芝浦机械电子装置股份有限公司 |
发明人 |
广瀬治道 |
分类号 |
B08B3/02(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I |
主分类号 |
B08B3/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
李辉;黄纶伟 |
主权项 |
一种施加处理液来清洗被清洗物的清洗方法,其中,该清洗方法具有:第1步骤,对所述被清洗物施加包含气泡的第1处理液;以及第2步骤,在该第1步骤后,对附着有所述第1处理液的状态下的所述被清洗物施加第2处理液,该第2处理液包含比所述第1处理液所包含的气泡的尺寸大的气泡,所述被清洗物在输送路径上被输送,与所述第1步骤相比在输送方向的下游侧进行所述第2步骤。 |
地址 |
日本神奈川县 |