| 摘要 |
【課題】従来よりも微細なサイズのモニタパターンを用いて位相シフトマスクの位相シフト量及び透過率を１回の測定工程により測定できる位相シフト量測定装置及び測定方法を提供する。【解決手段】シアリング干渉計６を用いてモニタパターンの位相シフト量及び透過率を同時に測定する。モニタパターンを通過した光と非パターンエリアを通過した光との干渉光の位相差から位相シフト量を求める。また、モニタパターンを通過した光と非パターンエリアを通過した光との干渉光の振幅及び非パターンエリアを通過した光同士の干渉光の振幅を用いてモニタパターンの透過率を求める。【選択図】図１ |
