发明名称 |
研磨头清洗装置、研磨设备及清洗方法 |
摘要 |
本发明公开了一种研磨头清洗装置及清洗方法,通过在对应研磨头上膜片与扣环之间缝隙的位置设置倾斜的喷头,在保持清洗条件不变的情况下,增强了局部清洗能力,实现了对于较难清洗的缝隙区域的重点清洗,提高了清洗效率,缩短了生产周期。本发明结构简单、安装方便、适于工业化生产。 |
申请公布号 |
CN104308720A |
申请公布日期 |
2015.01.28 |
申请号 |
CN201410427479.7 |
申请日期 |
2014.08.27 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
丁弋;朱也方 |
分类号 |
B24B37/04(2012.01)I;B24B37/34(2012.01)I;B24B53/017(2012.01)I |
主分类号 |
B24B37/04(2012.01)I |
代理机构 |
上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 |
代理人 |
吴世华;林彦之 |
主权项 |
一种研磨头清洗装置,该研磨头具有中间的膜片区域和边缘的扣环区域,该膜片区域与扣环区域之间具有缝隙,该清洗装置包括与总管路相连的清洗管和由清洗管上引出的多个清洗喷头,其特征在于:该清洗喷头包括对应于研磨头膜片区域的多个第一喷头以及对应于研磨头缝隙区域的多个第二喷头,该第二喷头在清洗管上倾斜而设,以使其喷射出的介质以非垂直方向射向该缝隙。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |