抗蚀剂添加剂及包含该添加剂的抗蚀剂组合物

摘要

本发明公开了一种下式1表示的抗蚀剂添加剂和包含该添加剂的抗蚀剂组合物。该抗蚀剂添加剂改善抗蚀剂膜表面的疏水性以防止在浸没式光刻工艺过程中抗蚀剂膜中的材料在水中被浸出，并且在显影工艺过程中被显影剂剥离以改善抗蚀剂膜表面的亲水性并允许抗蚀剂膜表面具有低的静态接触角，使得可以形成具有优异的敏感度和高分辨率的抗蚀剂膜微图案：式1在式1中，取代基的定义如说明书中所述。

主权项

一种由下式1表示的抗蚀剂添加剂：式1其中，R'、R”和R”’为氢原子，R₁为三氟甲基，R₂为C1‑C20亚烷基，R₃和R₄各自独立地选自下式3a‑3h：R₅是氢原子或甲基，l、m和n分别是主链中重复单元的数目，其中l+m+n＝1，0<l/(l+m+n)<0.99，0<m/(l+m+n)≤0.20和0<n/(l+m+n)<0.99，和o为整数1。