发明名称 |
三栅石墨烯鳍式场效应晶体管及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种三栅石墨烯鳍式场效应晶体管及其制造方法,通过在衬底上鳍结构中间的栅极位置覆盖形成三个表面的石墨烯层,再依次沉积栅极介质层和栅极电极层,从而形成三栅结构,以形成3D器件,可以提高晶体管的电学性能,并相较于单栅和双栅结构,本发明的三栅结构还可缩小晶体管占用的硅片表面面积。 |
申请公布号 |
CN104319290A |
申请公布日期 |
2015.01.28 |
申请号 |
CN201410593448.9 |
申请日期 |
2014.10.29 |
申请人 |
上海集成电路研发中心有限公司 |
发明人 |
康晓旭 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/51(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 |
代理人 |
吴世华;林彦之 |
主权项 |
一种三栅石墨烯鳍式场效应晶体管,其特征在于,其包括:衬底、衬底上的介质层以及介质层上的鳍结构,所述鳍结构为立方体形状且包括中间位置的栅极以及两端位置的源/漏电极,所述栅极具有不与下层介质层相接触的三个表面,每个所述表面依次覆盖石墨烯层、栅极介质层以及栅极电极层,以形成三栅结构。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区上海浦东张江高斯路497号 |