发明名称 三栅石墨烯鳍式场效应晶体管及其制造方法
摘要 本发明公开了一种三栅石墨烯鳍式场效应晶体管及其制造方法,通过在衬底上鳍结构中间的栅极位置覆盖形成三个表面的石墨烯层,再依次沉积栅极介质层和栅极电极层,从而形成三栅结构,以形成3D器件,可以提高晶体管的电学性能,并相较于单栅和双栅结构,本发明的三栅结构还可缩小晶体管占用的硅片表面面积。
申请公布号 CN104319290A 申请公布日期 2015.01.28
申请号 CN201410593448.9 申请日期 2014.10.29
申请人 上海集成电路研发中心有限公司 发明人 康晓旭
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L29/51(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人 吴世华;林彦之
主权项 一种三栅石墨烯鳍式场效应晶体管,其特征在于,其包括:衬底、衬底上的介质层以及介质层上的鳍结构,所述鳍结构为立方体形状且包括中间位置的栅极以及两端位置的源/漏电极,所述栅极具有不与下层介质层相接触的三个表面,每个所述表面依次覆盖石墨烯层、栅极介质层以及栅极电极层,以形成三栅结构。
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