发明名称 一种生长GZO(ZnO:Ga)晶体的方法
摘要 一种生长GZO(ZnO:Ga)晶体的方法,属于晶体生长技术领域。首先要制备出致密、均匀、单相优质料棒,其次是优化出助熔剂成分及配比,再次是得出移动助熔剂光学浮区法生长该系列单晶的生长功率、生长速度、料棒和籽晶转速等最佳工艺参数。本发明得到的晶体结晶质量高,生长方向固定,电学性质优异。
申请公布号 CN104313690A 申请公布日期 2015.01.28
申请号 CN201410532380.3 申请日期 2014.10.10
申请人 北京工业大学 发明人 蒋毅坚;马云峰;王越;梅晓平;张春萍;王强;徐仰立
分类号 C30B29/22(2006.01)I;C30B9/12(2006.01)I 主分类号 C30B29/22(2006.01)I
代理机构 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人 张慧
主权项 一种生长GZO晶体的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将粉料ZnO,Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>按ZnO:x wt%Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>化学计量比进行配料,其中x=0‐1.0,球磨烘干、200目过筛;(2)将(1)中制得的粉料装入长条橡胶气球中压实、封闭、抽真空,在等静压下制成粗细、致密均匀的素坯棒;(3)将(2)中制得的素坯棒在提拉旋转烧结炉中1250~1300℃保温24h~48h烧结得到致密均匀多晶料棒;(4)将粉料B<sub>2</sub>O<sub>3</sub>、MoO<sub>3</sub>、Nb<sub>2</sub>O<sub>5</sub>、ZnO按9.3:16.3:6.7:67.7摩尔百分比进行配料,球磨烘干,200目过筛;(5)将(4)中制得的200目过筛后的粉料装入长条橡胶气球中压实封闭,抽真空,在等静压下制成粗细、密度均匀的素坯棒;(6)将(5)中制得的素坯棒在提拉旋转烧结炉中1100℃保温24h烧结得到致密均匀助熔剂多晶料棒;(7)将(6)制得的助熔剂多晶料棒切割成厚度3~5mm的助熔剂横截面圆片;(8)将(3)制得的多晶料棒切取一段代替籽晶绑于下旋转杆托槽处,称为下料棒,使切面水平居中,将助熔剂横截面圆片放在上面,将切剩的多晶料棒悬挂在上旋转杆下作为上料棒,调节至居中,安装上石英管,调节上料棒和助熔剂横截面圆片靠近并处于卤素灯光聚焦区域,以60℃/min的速率升温至助熔剂横截面圆片表面轻度融化,浮区炉卤素灯的输出功率为1028W/h;如图1所示,将上料棒缓慢下降直至与助熔剂横截面圆片对接粘在一起,快速提升上料棒使之带着助熔剂横截面圆片与籽晶分离,以20℃/min的速率升温至上料棒与助熔剂横截面圆片充分熔融,浮区炉卤素灯的输出功率为1100W/h,保温0.5h;将上下料棒对接,待熔区稳定1h,设置它们反向旋转,上旋转速度为250~350rpm,下旋转速度为250~350rpm,设置晶体的生长速度为0.3~0.5mm/h开始生长,浮区炉卤素灯的输出功率为1100~1360W/h;(9)设置降温时间为4.5~10h,将步骤(8)生长出的晶体冷却至室温。
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