| 发明名称 |
WERKWIJZE VOOR HET AANBRENGEN VAN EEN PATROONLAAG VOOR EEN NEGATIEVE RESIST OP EEN SUBSTRAAT. |
| 摘要 |
<p>A method for forming a negative resist pattern which applies as a high energy beam-sensitive material a polymer consisting of components expressed by the general structural formula: <IMAGE> where: X=halogen or <IMAGE> (R2 is H or CH3) R1=H or CH3 n=1 to 3 m, l=integers having a relationship of 50</=m+l</=50,000.</p> |
| 申请公布号 |
NL181689(B) |
申请公布日期 |
1987.05.04 |
| 申请号 |
NL19790005364 |
申请日期 |
1979.07.09 |
| 申请人 |
NIPPON TELEGRAPH AND TELEPHONE CORPORATION TE TOKIO, JAPAN. |
发明人 |
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| 分类号 |
G03C7/32;C09B55/00;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03C1/71;C08F212/04 |
主分类号 |
G03C7/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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