| 发明名称 | 光流变可逆胶束体系及其制备 | ||
| 摘要 | 一种光流变可逆胶束体系，其为包含Gemini表面活性剂和光敏反离子的水溶液，所述Gemini表面活性剂为丙撑基双(十八烷基二甲基氯化铵)，所述光敏反离子为含偶氮苯基团的偶氮苯-4-苯甲酸。该体系在初始条件下具有良好的粘弹性、触变性和剪切变稀性；经波长为365nm紫外光(UV)照后，胶束体系的粘度、粘弹性、触变性等显著降低；再经450-470nm可见光照射后胶束体系的流变性可恢复，表现出光流变可逆性质。本发明的光敏表面活性剂胶束体系与其它光敏智能体系相比具有原料易得、体系制作工艺简捷等优势，可望丰富和发展光敏可逆粘弹性表面活性剂体系及其应用。 | ||
| 申请公布号 | CN104289160A | 申请公布日期 | 2015.01.21 |
| 申请号 | CN201410439974.X | 申请日期 | 2014.09.01 |
| 申请人 | 华东理工大学 | 发明人 | 方波;郁丽程;陈洁;金浩;田萌;金雷平;杨沫;许华;何艳芳 |
| 分类号 | B01J13/00(2006.01)I;C07C209/00(2006.01)I;C07C211/63(2006.01)I;C07C245/08(2006.01)I | 主分类号 | B01J13/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海顺华专利代理有限责任公司 31203 | 代理人 | 李鸿儒 |
| 主权项 | 一种光流变可逆胶束体系，其为包含Gemini表面活性剂和光敏反离子的水溶液，所述Gemini表面活性剂为丙撑基双(十八烷基二甲基氯化铵)，如式I所示，所述光敏反离子为含偶氮苯基团的偶氮苯‑4‑苯甲酸，如式II所示，<img file="FDA0000563650380000011.GIF" wi="1551" he="557" /> | ||
| 地址 | 200237 上海市徐汇区梅陇路130号 | ||