发明名称 吸附垫片、研磨装置及吸附垫片之制造方法
摘要 本发明系关于一种吸附垫片,其包含一吸附层。该吸附层包含用以吸附一基材之一吸附表面。该吸附表面包含一第一吸附区域及一第二吸附区域,其中该第一吸附区域之吸附力系大于该第二吸附区域之吸附力。根据本发明之吸附垫片藉由不同吸附区域,使研磨完毕便于卸除该基材,减少基材因卸除而破裂、减少卸除时间及降低卸除困难度。
申请公布号 TWI469850 申请公布日期 2015.01.21
申请号 TW101136439 申请日期 2012.10.03
申请人 三芳化学工业股份有限公司 高雄市仁武区凤仁路402号 发明人 冯崇智;姚伊蓬;王良光;宋欣如;吴文杰
分类号 B24B37/30 主分类号 B24B37/30
代理机构 代理人 蔡东贤 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种吸附垫片,其包含一吸附层,该吸附层包含一吸附表面,用以吸附一基材,其中该吸附表面包含:一第一吸附区域及一第二吸附区域,其中该第一吸附区域之吸附力系大于该第二吸附区域之吸附力;其中该吸附表面另包含一第三吸附区域,且该第二吸附区域之吸附力系大于该第三吸附区域之吸附力,其中该第二吸附区域系环绕该第三吸附区域。
地址 高雄市仁武区凤仁路402号