发明名称 |
吸附垫片、研磨装置及吸附垫片之制造方法 |
摘要 |
本发明系关于一种吸附垫片,其包含一吸附层。该吸附层包含用以吸附一基材之一吸附表面。该吸附表面包含一第一吸附区域及一第二吸附区域,其中该第一吸附区域之吸附力系大于该第二吸附区域之吸附力。根据本发明之吸附垫片藉由不同吸附区域,使研磨完毕便于卸除该基材,减少基材因卸除而破裂、减少卸除时间及降低卸除困难度。 |
申请公布号 |
TWI469850 |
申请公布日期 |
2015.01.21 |
申请号 |
TW101136439 |
申请日期 |
2012.10.03 |
申请人 |
三芳化学工业股份有限公司 高雄市仁武区凤仁路402号 |
发明人 |
冯崇智;姚伊蓬;王良光;宋欣如;吴文杰 |
分类号 |
B24B37/30 |
主分类号 |
B24B37/30 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡东贤 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
一种吸附垫片,其包含一吸附层,该吸附层包含一吸附表面,用以吸附一基材,其中该吸附表面包含:一第一吸附区域及一第二吸附区域,其中该第一吸附区域之吸附力系大于该第二吸附区域之吸附力;其中该吸附表面另包含一第三吸附区域,且该第二吸附区域之吸附力系大于该第三吸附区域之吸附力,其中该第二吸附区域系环绕该第三吸附区域。 |
地址 |
高雄市仁武区凤仁路402号 |