发明名称 晶片封装体及其形成方法
摘要 一种晶片封装体,包括基底;汲极区及源极区,位于基底中;闸极,位于基底上或埋于其中;汲极、源极、及闸极导电结构,设置于基底上,且分别电性连接汲极区、源极区、及闸极;第二基底,设于基底之侧;第二汲极区及第二源极区,位于第二基底中,第二汲极区电性连接源极区;第二闸极,位于第二基底之上或埋于其中;及第二源极及第二闸极导电结构,设置于第二基底上,且分别电性连接第二源极区及第二闸极,其中汲极、源极、闸极、第二源极、及第二闸极导电结构之端点大抵共平面。
申请公布号 TWI470769 申请公布日期 2015.01.21
申请号 TW100145029 申请日期 2011.12.07
申请人 精材科技股份有限公司 桃园市中坜区中坜工业区吉林路23号9楼 发明人 温英男;姚皓然;何彦仕;张恕铭;刘建宏;李士仪;杨惟中
分类号 H01L27/088;H01L23/48;H01L21/50 主分类号 H01L27/088
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项 一种晶片封装体,包括:一半导体基底;一汲极区及一源极区,位于该半导体基底中;一闸极,位于该半导体基底之上或至少部分埋于该半导体基底中;一汲极导电结构、一源极导电结构、及一闸极导电结构,设置于该半导体基底之上,且分别电性连接该汲极区、该源极区、及该闸极;一第二半导体基底,横向设置于该半导体基底之一侧;一第二汲极区及一第二源极区,位于该第二半导体基底中,其中该第二汲极区电性连接该半导体基底中之该源极区;一第二闸极,位于该第二半导体基底之上或至少部分埋于该第二半导体基底之中;以及一第二源极导电结构及一第二闸极导电结构,设置于该第二半导体基底之上,且分别电性连接该第二源极区及该第二闸极,其中该汲极导电结构、该源极导电结构、该闸极导电结构、该第二源极导电结构、及该第二闸极导电结构之端点系大抵共平面。
地址 桃园市中坜区中坜工业区吉林路23号9楼