发明名称 一种掩模板及使用掩模板制作光阻间隔物的方法
摘要 本发明提供一种掩模板及使用掩模板制作光阻间隔物的方法,所述掩模板包括第一透光区域,所述第一透光区域包括遮光部分;所述制作光阻间隔物的方法包括:在液晶显示器的基板的表面涂布负向光阻材料;使用所述掩模板对所述负向光阻材料进行曝光;对所述曝光后的负向光阻材料进行显影,以形成具预设高度的次光阻间隔物;其中根据所述次光阻间隔物的预设高度,确定所述第一透光区域的所述遮光部分的面积。本发明的掩模板及使用掩模板制作光阻间隔物的方法,通过在第一透光区域上设置面积不同的遮光部分,从而得到高度不同的次光阻间隔物,以提高玻璃基板间间隙宽度的均匀性,进而提高液晶显示器的显示效果。
申请公布号 CN104298011A 申请公布日期 2015.01.21
申请号 CN201410449673.5 申请日期 2014.09.05
申请人 深圳市华星光电技术有限公司 发明人 吕启标
分类号 G02F1/1339(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F1/54(2012.01)I 主分类号 G02F1/1339(2006.01)I
代理机构 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人 黄威
主权项 一种使用掩模板制作光阻间隔物的方法,其中所述掩模板包括第一透光区域,其特征在于,所述第一透光区域包括遮光部分;所述制作光阻间隔物的方法包括:在液晶显示器的基板的表面涂布负向光阻材料;使用所述掩模板对所述负向光阻材料进行曝光;以及对所述曝光后的负向光阻材料进行显影,以形成具预设高度的次光阻间隔物;其中根据所述次光阻间隔物的预设高度,确定所述第一透光区域的所述遮光部分的面积。
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