发明名称 |
一种掩模板及使用掩模板制作光阻间隔物的方法 |
摘要 |
本发明提供一种掩模板及使用掩模板制作光阻间隔物的方法,所述掩模板包括第一透光区域,所述第一透光区域包括遮光部分;所述制作光阻间隔物的方法包括:在液晶显示器的基板的表面涂布负向光阻材料;使用所述掩模板对所述负向光阻材料进行曝光;对所述曝光后的负向光阻材料进行显影,以形成具预设高度的次光阻间隔物;其中根据所述次光阻间隔物的预设高度,确定所述第一透光区域的所述遮光部分的面积。本发明的掩模板及使用掩模板制作光阻间隔物的方法,通过在第一透光区域上设置面积不同的遮光部分,从而得到高度不同的次光阻间隔物,以提高玻璃基板间间隙宽度的均匀性,进而提高液晶显示器的显示效果。 |
申请公布号 |
CN104298011A |
申请公布日期 |
2015.01.21 |
申请号 |
CN201410449673.5 |
申请日期 |
2014.09.05 |
申请人 |
深圳市华星光电技术有限公司 |
发明人 |
吕启标 |
分类号 |
G02F1/1339(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F1/54(2012.01)I |
主分类号 |
G02F1/1339(2006.01)I |
代理机构 |
深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 |
代理人 |
黄威 |
主权项 |
一种使用掩模板制作光阻间隔物的方法,其中所述掩模板包括第一透光区域,其特征在于,所述第一透光区域包括遮光部分;所述制作光阻间隔物的方法包括:在液晶显示器的基板的表面涂布负向光阻材料;使用所述掩模板对所述负向光阻材料进行曝光;以及对所述曝光后的负向光阻材料进行显影,以形成具预设高度的次光阻间隔物;其中根据所述次光阻间隔物的预设高度,确定所述第一透光区域的所述遮光部分的面积。 |
地址 |
518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号 |