一种曝光系统及曝光方法

摘要

本发明提供了一种曝光系统及曝光方法，其中曝光系统包括：发光面板，发光面板包括矩阵式排布的多个发光单元，每个发光单元包括发光层；用于驱动发光面板待发光区域内的发光单元进行发光的驱动模块，待发光区域具有的图形与待形成图形的形状相同；用于将发光面板发出的光转变为平行光的第一透镜；用于对经过第一透镜的光进行过滤，选择透过进行曝光需要的波长的光的滤镜。本发明的技术方案仅通过控制不同区域内的发光单元发光，就能够实现制作不同图形所需的不同区域的曝光，节省了实体的石英掩膜版，从而降低了光刻工艺的成本。

主权项

一种曝光系统，其特征在于，包括：发光面板，所述发光面板包括矩阵式排布的多个发光单元，每个所述发光单元包括发光层；用于驱动所述发光面板待发光区域内的发光单元进行发光的驱动模块，所述待发光区域具有的图形与待曝光的膜层所要形成的图形的形状相同；用于将所述发光面板发出的光转变为平行光的第一透镜；用于对经过所述第一透镜的光进行过滤，选择透过进行曝光需要的波长的光的滤镜。