流体处理结构、光刻设备和器件制造方法

摘要

本发明公开了一种流体处理结构、光刻设备以及器件制造方法。所述流体处理结构具有用作根据气体拖曳原理操作的弯液面钉扎系统的多个开口和位于弯液面钉扎系统外面的气刀，以破碎遗留下的任何液体薄膜。气刀和弯液面钉扎系统之间的间隔是从1mm至5mm的范围中选出的。期望地，其中设置有气刀和弯液面钉扎系统的阻挡构件的下侧在气刀和弯液面钉扎系统之间是连续的，例如没有开口。

主权项

一种用于光刻设备的流体处理结构，所述流体处理结构具有配置成限定液体主体的弯液面的多个弯液面钉扎开口，所述流体处理结构被配置使得所述多个弯液面钉扎开口在使用中被引导朝向衬底和/或被配置以支撑所述衬底的衬底台，所述流体处理结构还包括气刀装置，所述气刀装置具有细长孔或被布置成一条线的多个孔，所述细长孔或多个孔被布置成与所述多个弯液面钉扎开口的距离在从1mm至5mm的范围内，其中所述气刀装置在所述气刀装置与所述弯液面钉扎开口之间形成连续的压力梯度，从气刀装置流出的所有气体基本上都流入到所述弯液面钉扎开口中。