度量方法及检验装置、微影系统及元件制造方法

摘要

本发明揭示用于量测在一基板(W)上藉由一微影程序形成之目标结构(32至35)之方法。该目标内之一光栅结构小于一量测光学系统之一照明光点(31)及视场。该光学系统具有通向一光瞳平面成像感测器(19)之一第一分支，及通向一基板平面成像感测器(23)之一第二分支。一空间光调变器(SLM)(24、124、224、324)配置于该光学系统之该第二分支之一中间光瞳平面中。该SLM赋予一可程式化衰减图案，该可程式化衰减图案可用以校正第一照明或成像模式与第二照明或成像模式之间的不对称性。藉由使用特定目标设计及机器学程序，该等衰减图案亦可经程式化以充当滤波函数，从而增强对诸如焦点之特定所关注参数之敏感性。

主权项

一种量测在一基板上藉由一微影程序形成之一周期性结构中之不对称性的方法，该方法包含以下步骤：使用该微影程序以在该基板上形成一周期性结构；一第一量测步骤，其包含形成及侦测该周期性结构之一第一影像，同时用一第一辐射光束来照明该结构，该第一影像系使用绕射辐射之一第一选定部分而形成；一第二量测步骤，其包含形成及侦测该周期性结构之一第二影像，同时用一第二辐射光束来照明该结构，该第二影像系使用在该周期性结构之一绕射光谱中与该第一部分对称地对置的该绕射辐射之一第二选定部分而形成；及使用自该经侦测第一影像及该经侦测第二影像一起导出之一强度值差以判定该周期性结构之一属性，其中光学系统进一步包含一空间光调变器，该空间光调变器经控制以在分别形成该第一影像及该第二影像之前遍及该绕射辐射之该第一选定部分及该第二选定部分而应用一变化非二元光学衰减。