| 发明名称 |
铝基合金溅镀靶 |
| 摘要 |
本发明提供一种铝基合金溅镀靶，其可用于形成低配线电阻和抗凸点(hillock)性优异的金属薄膜，较好可抑制溅镀时的飞溅发生。本发明有关铝基合金溅镀靶，其含有Fe为0.0010～0.4质量%及Si为0.0010～0.50质量%。 |
| 申请公布号 |
TWI470100 |
申请公布日期 |
2015.01.21 |
| 申请号 |
TW099137240 |
申请日期 |
2010.10.29 |
| 申请人 |
神户制钢所股份有限公司 日本;钢臂功科研股份有限公司 日本 |
发明人 |
高木敏晃;松本克史;岩崎佑纪;莳野秀忠 |
| 分类号 |
C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
| 主权项 |
一种铝基合金溅镀靶，其系含有Fe为0.0010~0.4质量%、Si为0.0010~0.50质量%及Mn为0.001~0.1质量%。 |
| 地址 |
日本 |
