发明名称 微影装置和方法
摘要 本发明提供一种微影装置,其包括一经建构及经配置以调节一辐射光束之照明系统,及一经建构及经配置以支撑一图案化器件的支撑结构。该图案化器件经组态以在该辐射光束之横截面中赋予一图案。该装置亦包括一经建构及经配置以固持一基板之基板台。该基板台包括一与一热调节板热接触之基板支撑板。该装置进一步包括一经建构及经配置以将该经图案化之辐射光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统。
申请公布号 TWI470362 申请公布日期 2015.01.21
申请号 TW097107362 申请日期 2008.03.03
申请人 ASML荷兰公司 荷兰 发明人 克里斯汀 亚历山大 胡根登;法兰西瑟斯 乔汉那斯 约瑟夫 简森
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种微影装置,其包含:一照明系统,该照明系统经建构及经配置以调节一辐射光束;一支撑结构,该支撑结构经建构及经配置以支撑一图案化器件,该图案化器件经组态以在该辐射光束之横截面中赋予一图案;一基板台,该基板台经建构及经配置以固持一基板,该基板台包含一与一热调节板热接触之基板支撑板,该基板支撑板包含一具有一等于或大于约50W/mK之热传导率的材料及一界定经配置以接触及支撑该基板之复数个表面变形的基板支撑表面,其中该等表面变形经配置以接触该基板之一经配置以接触该基板支撑表面之一表面高于或等于5%但少于或等于约20%的面积;及一投影系统,该投影系统经建构及经配置以将该经图案化之辐射光束投影至该基板的一目标部分上。
地址 荷兰