一种可调分子泵隔气板高度的真空磁控溅射镀膜设备

摘要

本发明公开了一种可调分子泵隔气板高度的真空磁控溅射镀膜设备，具有高度调节结构，所述高度调节结构由两组对称的升降机构组成，所述升降机构包括挂板、偏心轮和顶杆，所述偏心轮的转动轴固定在真空磁控溅射镀膜设备上，所述顶杆设置在所述偏心轮的上侧，所述挂板的顶部与顶杆连接，挂板的底端设于隔气板的下侧并托住隔气板。本发明的优点：1)、灵活性更好，在交换做三银和单银玻璃时可以将隔气板高度调整至不同的高度以适应生产的需要，提高了生产效率。2)、生产较厚的夹层玻璃时为了避免玻璃被隔气板夹住，可以升高隔气板的高度，生产较薄的玻璃时将隔气板高度调低，可以消除产品的边缘效应，有利于提高产品的颜色均匀性。

主权项

一种可调分子泵隔气板高度的真空磁控溅射镀膜设备，其特征在于：具有高度调节结构，所述高度调节结构由两组对称的升降机构组成，所述升降机构包括挂板(4)、偏心轮(7)和顶杆(3)，所述偏心轮(7)的转动轴固定在真空磁控溅射镀膜设备上，所述顶杆(3)设置在所述偏心轮(7)的上侧，所述挂板(4)的顶部与顶杆(3)连接，挂板(4)的底端设于隔气板(1)的下侧并托住隔气板(1)。