发明名称 |
用于形成抗蚀剂下层膜的组合物 |
摘要 |
本发明的课题是提供一种用于形成抗蚀剂下层膜的组合物,所述抗蚀剂下层膜能够提高与抗蚀剂图案之间的附着性。解决手段是一种用于形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物,其含有聚合物和有机溶剂,所述聚合物在末端具有下述式(1a)、式(1b)或式(2)所表示的结构。式中,R<sub>1</sub>表示氢原子或甲基,R<sub>2</sub>和R<sub>3</sub>分别独立地表示氢原子或烃基等有机基团,所述烃基可以具有至少1个羟基或甲基硫基作为取代基,R<sub>4</sub>表示氢原子或羟基,Q<sub>1</sub>表示亚芳基,v表示0或1,y表示1~4的整数,w表示1~4的整数,x<sub>1</sub>表示0或1,x<sub>2</sub>表示1~5的整数。<img file="DDA0000601378010000011.GIF" wi="1104" he="496" /> |
申请公布号 |
CN104303107A |
申请公布日期 |
2015.01.21 |
申请号 |
CN201380023663.9 |
申请日期 |
2013.04.26 |
申请人 |
日产化学工业株式会社 |
发明人 |
远藤贵文;坂本力丸;藤谷德昌 |
分类号 |
G03F7/11(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/11(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
段承恩;田欣 |
主权项 |
一种用于形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物,其含有聚合物和有机溶剂,所述聚合物在末端具有下述式(1a)、式(1b)或式(2)所表示的结构,<img file="FDA0000601377990000011.GIF" wi="1579" he="723" />式中,R<sub>1</sub>表示氢原子或甲基,R<sub>2</sub>和R<sub>3</sub>分别独立地表示氢原子、碳原子数1~6的直链状或支链状的烃基、脂环式烃基、苯基、苯甲基、苯甲基氧基、苯甲基硫基、咪唑基或吲哚基,所述烃基、所述脂环式烃基、所述苯基、所述苯甲基、所述苯甲基氧基、所述苯甲基硫基、所述咪唑基、所述吲哚基可以具有至少1个羟基或甲基硫基作为取代基,R<sub>4</sub>表示氢原子或羟基,Q<sub>1</sub>表示亚芳基,v表示0或1,y表示1~4的整数,w表示1~4的整数,x<sub>1</sub>表示0或1,x<sub>2</sub>表示1~5的整数。 |
地址 |
日本东京都 |