一种硅片表面钨铁金属离子的清洗方法

摘要

本发明公开了一种硅片表面金属钨铁的清洗方法，该方法首先将有金属钨和铁的硅片进行超声清洗，然后用氢氟酸、双氧水和水的混合液进行处理，再依次移入氢氟酸、盐酸和硝酸组成的混合溶液，盐酸，双氧水和水组成的混合液，氨水、双氧水和水组成的混合液以及氢氟酸稀溶液中超声清洗，清洗后冲洗、脱水、烘干。本发明提供的硅片清洗方法，能有效去除硅片表面的金属钨，使不小心被钨或铁污染的硅片，满足工业要求。

主权项

一种硅片表面金属钨铁离子的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）将表面有金属钨或者铁的硅片在50~60℃的去离子水内超声处理5~10min；（2）将超声后的硅片，放入由氢氟酸、双氧水和水按照体积比1~5：20~100：80~500组成的混合液中超声处理3~10min，混合液的温度为30~70℃；（3）将硅片放入由氢氟酸、盐酸、硝酸和去离子水按照体积比30~90：0.005~1：20~35：80~500组成的混合溶液内超声处理5~20min；混合溶液的温度为30~70℃；（4）将步骤3清洗过的硅片移入由盐酸、双氧水和水按照体积比10~50：1~50：80~500组成的混合液中，超声清洗5~10min；混合液的温度约30~70℃；（5）将步骤4处理过的硅片移入由氨水、双氧水和水按照体积比1~2：2~4：80~100组成的混合液内，超声1~10min；混合液的温度为30~50℃；（6）将硅片放入氢氟酸稀溶液中超声5~30S；所述氢氟酸稀溶液由氢氟酸和水配成，氢氟酸与水的体积比为1：40~150，溶液温度为30~50℃；（7）反复用去离子水清洗硅片，在无水乙醇中脱水3~7分钟；在50~70℃的烘箱内烘干。