微光刻投射曝光设备的光学系统

摘要

本发明涉及一种微光刻投射曝光设备的光学系统，其包含至少一个反射镜装置(200)，该反射镜装置具有多个反射镜元件，这些元件可彼此独立地位移以改变由该反射镜装置反射的光的角度分布；以及偏阵影响光学装置(300、800、900)，该偏阵影响光学装置包含第一半波板(310、810、910)以及至少一个第二半波板(320、820、920)。

主权项

一种微光刻投射曝光设备的光学系统，其包含：‑至少一个反射镜装置(200)，其具有多个反射镜元件，该多个反射镜元件能够彼此独立地位移以改变由所述反射镜装置反射的光的角度分布；以及‑偏振影响光学装置(300、800、900)，其包含第一半波板(310、810、910)以及至少一个第二半波板(320、920、930)；其中，所述第一半波板(310)和所述第二半波板(320)关于所述光传播方向连续布置在所述光学系统中。