发明名称 |
抛光装置及其异常处理方法 |
摘要 |
一种抛光装置及其异常处理方法,所述抛光装置的异常处理方法包括:当抛光过程中因异常产生报警时,发送报警信号;基于接收到的所述报警信号以有机酸溶液对所述抛光装置中的晶圆进行处理。本发明能防止抛光装置在对晶圆的抛光过程中因异常情况产生报警并停止工作后晶圆上的金属材料被腐蚀而导致器件失效。 |
申请公布号 |
CN102485424B |
申请公布日期 |
2015.01.21 |
申请号 |
CN201010573122.1 |
申请日期 |
2010.12.03 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
发明人 |
蒋莉;黎铭琦 |
分类号 |
B24B37/34(2012.01)I |
主分类号 |
B24B37/34(2012.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
骆苏华 |
主权项 |
一种抛光装置,包括研磨机构、清洗机构,其特征在于,还包括:报警单元、处理单元,所述报警单元,当抛光过程中因异常产生报警时,发送报警信号给所述处理单元;所述处理单元,基于接收到的所述报警信号以具有非电解质或弱电解质特性的有机酸溶液对所述抛光装置中的晶圆进行处理,所述晶圆上具有金属材料以及与所述金属材料具有不同特性的其他材料;所述处理单元以所述有机酸溶液对所述抛光装置中的晶圆进行的处理包括:向所述晶圆喷射所述有机酸溶液;所述处理单元在接收到所述报警信号后的第一处理时间内,持续向所述晶圆喷射所述有机酸溶液;所述处理单元在所述第一处理时间后至所述报警解除前的第二处理时间内,间隔地向所述晶圆喷射所述有机酸溶液,且每次向所述晶圆喷射所述有机酸溶液的时间小于所述第一处理时间。 |
地址 |
100176 北京市大兴区经济技术开发区文昌大道18号 |