发明名称 含4,4'–双(对–胺苯氧)二苯基及矽氧烷二胺基之聚醯亚胺共聚物
摘要 一种使用于电子件作为钝化及绝缘涂覆用之低模数,耐溶剂,可湿蚀刻之聚亚胺,该聚亚胺类含4,4'-双(对-胺苯氧基)联苯部分,矽氧烷2胺部分,以及二酐部分。
申请公布号 TW155740 申请公布日期 1991.04.11
申请号 TW079102805 申请日期 1990.04.10
申请人 安莫克股份有限公司 发明人 大卫亚伦瓦高斯奇;阿格尼斯马利包尔卡;马文贾布吉斯
分类号 C08G 主分类号 C08G
代理机构 代理人 郑自添 台北巿敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1﹒包含反复单位之聚亚胺组成物式中Ar为一种或以上四价之芳香族核;R为二价之烃基,脂族部份具有1-15碳原子;R1为一价之烃基,其中,脂族部分具有1-10碳原子,而芳族部分具有6至20碳原子;m和n为1或以上;而X为1至50。2﹒如申请专利范围第1项之聚亚胺组成物,其中Ar包含一种或以上选自由下列族群所构成之芳香族核或其并合物。3﹒如申请专利范围第1项之聚亚胺组成物,其中Ar为4﹒如申请专利范围第1项之聚亚胺组成物,其中Ar为5﹒如申请专利范围第1项之聚亚胺组成物,其中Ar为6﹒一种底材(Substrate)构造体,系被覆有申请专利范围第1项之聚亚胺组成物之一种或以上覆层者。7﹒一种含有如申请专利范围第1项聚体之聚亚胺溶液。8﹒一种包含有重复单位之聚酯胺酸组成物式中Ar为一种或以上四价之芳香族核;R为二价之烃基;R1为单价之烃基脂族部分具有1-15碳原子;r和s为1或以上;y为1至50;R2和R3系独立选自卤素,一OH,和一OR4;而R4为1至4碳原子之烷基。9﹒一种包含含申请专利范围第8项聚醯胺酸组成物之聚醯胺酸溶液。10﹒一种底材(substrate),涂覆有申请专利范围第8项之聚醯胺酸组成物之涂层。11﹒一种聚亚胺组成物其系便下列之化合物为脂族部份具有1至15碳原子;R1系选自脂族部分具有1至10碳原子或芳基其部分具有6至20碳原子;而y为1至50,经由反应而制备。12﹒如申请专利范围第11项之聚亚胺组成物,其中二酐部分系选自双(3,4一羧苯基)二酐(SPAN),2,2一双(3,4一二羧苯基)丙烷二酐(IPAN),以及双─(3,4─二羧苯基)醚二酐(OPAN)群所构成者。13﹒一种多层构造(multilayerstructure)包含一种或以上底材系涂覆以一种以上申请专利范围第1项之聚亚胺组成物之涂层者。14﹒一种多层构造(multilayerstructure)包含一种或以上底材系涂覆以一种以上申请专利范围第8项之聚醯胺酸组成物之涂层者。
地址 美国