| 主权项 |
1﹒一种制法,其用以制备具下式之化合物:或其硷盐,式中,R2为氢或随意为1个选自C1-C6烷氧基及C1-C6烷氧(C1-C6烷氧)之取代基所取代之C1-C6烷基;且R3为C1-C6烷基或基,上述基随意为1个硝基或C1-C4烷氧取代基所环取代,其包括使下式之化合物:式中,R1为C1-C4烷基,苯基,基或C1-C4烷氧基;且R2及R3为上述化合物(Ⅰ)之定义,与过氧化氢或过氧离子源反应;于此方法后可再随意将式(Ⅰ)之化合物转化成其硷盐。2﹒如申请专利范围第1项之方法,其中过氧离子源为过氧化氢,过氧(C1-C4)烷酸,过硼酸钠或其水合物,或过碳酸钠,且在有水存在下进行。3﹒如申请专利范围第1项之方法,其中使用过氧化氢并在有酸或硷存在下进行。4﹒如申请专利范围第1项之方法,其是在适当溶剂中且在有酸或硷存在下进行。5﹒如申请专利范围第4项之方法,其中溶剂为第三丁醇。、6﹒如申请专利范围第4项之方法,其中酸为硫酸。7﹒如申请专利范围第1项之方法,其在乙酸中进行。8﹒如申请专利范围第4项之方法,其中硷为钠或钾氢氧化物,碳酸盐或碳酸氢盐。9﹒如申请专利范围第8项之方法,其中硷为钠或钾碳酸氢盐。,10﹒如申请专利范围第1至9项中任一项之方法,其中,R1为C1-C4烷基,苯基或C1-C4烷氧基。11﹒如申请专利范围第10项之方法,其中R1为甲基,苯基或乙氧基;R2为氢,2-甲氧乙氧甲基,2-甲氧乙氧甲基,2-甲氧乙基或甲氧甲基;且R3为乙基,第三丁基,基,4-硝基或4-甲氧基。12﹒如申请专利范围第11项之方法,其中R1为甲基或乙氧基;R2为氢或2-甲氧乙氧甲基;且R3为第三丁基。13﹒一种化合物,其具有如申请专利范围第1项定义之式(Ⅱ),其中R1,R2及R3如申请专利范围第1项之定义。 |
