发明名称 彩色影像管及其制造方法
摘要 本发明系有关一种彩色影像管及其制造方法,该彩色影像管,系在具备有萤光幕与被设在近接于此萤光幕被穿设有多数孔口之阴蔽罩,与介此阴蔽罩的孔口将电子束发射予上述萤光幕使其发光之电子枪所成彩色影像管中,其特征为在上述阴蔽罩之表面形成做为粘结剂使用非晶质金属氧化物,非晶质氢氧化金属物及两者混合物中之任一含金属及金属之氧化物,碳化物,氮化物中之至少一种所成层者。而其制造方法系在制造具备有萤光幕,与被设置在近邻于此萤光幕被穿设有多数孔口之阴蔽罩,与介此阴蔽罩之孔口使电子束发射予萤光幕令其发光之电子枪所成彩色影像管之方法中,其特征为具备由穿设多数孔口于上述阴蔽罩上之工程;成形上述阴蔽罩为所定形状之工程;在上述阴蔽罩表面涂布含金属醇化合物之悬浊液的工程;及热处理上述阴蔽罩之工程所成者。
申请公布号 TW158686 申请公布日期 1991.05.21
申请号 TW075102878 申请日期 1986.06.24
申请人 东芝股份有限公司 发明人 小池教雄;木田金治;松田秀三;时田 清
分类号 H01J 主分类号 H01J
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1﹒一种彩色影像管,系在具备有萤光幕,与被设在近接于此萤光幕被穿设有多数孔口之阴蔽罩,与分着此阴蔽罩的孔口将电子束发射予上述萤光幕上使其发光之电子枪所成彩色影像管中,其特征为在上述阴蔽罩之表面形成做为粘结剂使用非晶质金属氧化物,非晶质氢氧化金属物及两者混合物中之任一含金属及金属之氧化物、碳化物、氮化物申之至少一种所成层。2﹒如申请专利范围第1项所记载之彩色影像管,其中上述层为被形成于与阴蔽罩之电子束相对方向之一面。3﹒一种彩色影像管之制造方法,系在制造具备有萤光幕,与被设置在近邻于此萤光幕被穿设有多数孔口之阴蔽罩,与分着此阴蔽罩之孔口使电子束发射予萤光幕令其发光之电子枪所成彩色影像管之方法中,其特征为具备有穿设多数孔口于上述阴蔽罩上之工程;成形上述阴蔽罩为所定形状之工程;在上述阴蔽罩表面涂布含金属醇盐化合物之悬浊液的工程;及热处理上述阴蔽罩之工程所成。4﹒如申请专利范围第3项所记载之彩色影像管的制造方法,其中在涂布悬浊液之工程或热处理工程,阴蔽罩之温度为约70℃以上。5﹒如申请专利范围第3项所记载之彩色影像管的制造方法,其中在涂布悬浊液于阴蔽罩表面之工程中,照射红外线。6﹒如申请专利范围第3项所记载之彩色影像之制造方法,其中在成形阴蔽罩为所定形状之工程与在阴蔽罩表面涂布悬浊液之工程之间,包含至少形成萤光幕之工程。7﹒如申请专利范围第3项所记载之彩色影像管的制造方法,其中金属醇盐化合物为矽与锆之化合物。8﹒如申请专利范围第3项所记载之彩色影像管的制造方法,其中悬浊液中之填料为矽酸锆。9﹒如申请专利范围第3项所记载之彩色影像管的制造方法,其中热处理工程后之层厚度为1m-30m。图示简单说明第l图系本发明之一实施例纵剖面图。第2系表示第l图实施例之阴蔽罩局部的放大侧视图。第3图及第4图系说明本发明实施例之纯度偏差性的再生画像图型之简略图。第5图系说明本发明实施例对比特性的再生画像图型之简略图。第6图系表示本发明另一实施例之一部份剖面图。第7图系对表示于第4图之图型中的比较品,示其膜厚度与波束移动量之相关关系特性图。
地址 日本国神奈川县川崎巿幸区堀川町七十二番地