发明名称 操作图案化器件之方法及微影装置
摘要 用一辐射光束(B)来照明一微影光罩(200)以将一图案转印至一基板(W)。藉由该辐射对该光罩之加热而诱发平面内失真(局域位置偏差)。使用该光罩之一周边部分中之复数个参考标记(236)且量测随时间而变的该等周边标记之相对位置之偏差来演算此等失真。在该经图案化部分内界定复数个子区域或格胞(300)。可求解一方程式体系以演算每一格胞之一扩张,每一方程式使一周边标记对之经量测位置与沿着连接经量测标记对之一线(s、s1、s2)而定位的该等格胞之扩张有关。可藉由组合至少一经量测周边标记与一所关注位置(320)之间的子区域之经演算扩张来演算该所关注位置处之该等局域位置偏差。可根据该演算之结果来应用校正,例如,以缩减叠对误差。可将能量施加至图案化器件(例如,藉由热输入或机械致动器)以修改该等局域位置偏差之一分布以允许较好校正。
申请公布号 TWI470715 申请公布日期 2015.01.21
申请号 TW100140584 申请日期 2011.11.07
申请人 ASML荷兰公司 荷兰 发明人 伯斯颜索夫 维他利;维南马 威廉 朱瑞奴司;托斯特 卡斯 季格;凡 德 维伦 安卓雅斯 马汀纳斯
分类号 H01L21/66;H01L23/544;H01L21/027;G03F7/20;G09F9/00;H01L21/68 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人 林嘉兴 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种操作一图案化器件之方法,该图案化器件具有一经图案化部分,该经图案化部分在操作中系用一辐射光束予以照明,以便在该辐射光束之横截面中将一图案赋予至该辐射光束,该方法包含:(a)在该图案化器件之一周边部分中提供围绕该经图案化部分而分布之复数个参考标记,且量测该等标记相对于彼此之位置;(b)在该图案化器件之一操作周期之后,再次量测该等周边标记之该等位置;(c)藉由参考该等周边标记之该等经量测位置,演算藉由在该图案化器件之该经图案化部分内之一或多个所关注位置处藉由该辐射光束对该图案化器件之热加热诱发的局域(local)位置偏差,其中该演算步骤(c)包含:(c1)选择该等周边标记之对(pairs),以便界定穿越该经图案化部分之一线集合,使得对于该经图案化部分内之复数个子区域,每一子区域系由该等线中之一个以上线所穿越;(c2)求解一方程式体系(system of equations)以演算每一子区域之一扩张(dilation),每一方程式使该等线中每一者之末端处的该等标记之间的经量测位置偏差与沿着该线而定位的该等子区域之扩张有关;(c3)藉由组合至少一经量测周边标记与该所关注位置之间的子区域之经演算扩张来演算该等所关注位置处之该等局域位置偏差。
地址 荷兰