发明名称 导热绝缘复合膜层及晶片堆叠结构
摘要 本发明提供一种导热绝缘复合膜层,包括位于金属基材之上表面及下表面上之介面层,以及位于介面层上之绝缘层。由于本发明之绝缘复合层兼具导热及绝缘特性,因此可设置于晶片堆叠结构之间并直接接触晶片,以同时于水平及垂直方向散热。
申请公布号 TWI470749 申请公布日期 2015.01.21
申请号 TW098144432 申请日期 2009.12.23
申请人 财团法人工业技术研究院 新竹县竹东镇中兴路4段195号 发明人 吕明生;刘君恺;黄振东;吴金宝;余致广
分类号 H01L23/34;H01L25/04 主分类号 H01L23/34
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项 一种导热绝缘复合膜层,包括:一金属基材;一介面层,分别位于该金属基材之上表面及下表面上,其中该介面层包括铝或氮化铝;以及一第一绝缘层,位于该些介面层上。
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号