发明名称 |
导热绝缘复合膜层及晶片堆叠结构 |
摘要 |
本发明提供一种导热绝缘复合膜层,包括位于金属基材之上表面及下表面上之介面层,以及位于介面层上之绝缘层。由于本发明之绝缘复合层兼具导热及绝缘特性,因此可设置于晶片堆叠结构之间并直接接触晶片,以同时于水平及垂直方向散热。 |
申请公布号 |
TWI470749 |
申请公布日期 |
2015.01.21 |
申请号 |
TW098144432 |
申请日期 |
2009.12.23 |
申请人 |
财团法人工业技术研究院 新竹县竹东镇中兴路4段195号 |
发明人 |
吕明生;刘君恺;黄振东;吴金宝;余致广 |
分类号 |
H01L23/34;H01L25/04 |
主分类号 |
H01L23/34 |
代理机构 |
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代理人 |
洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼 |
主权项 |
一种导热绝缘复合膜层,包括:一金属基材;一介面层,分别位于该金属基材之上表面及下表面上,其中该介面层包括铝或氮化铝;以及一第一绝缘层,位于该些介面层上。 |
地址 |
新竹县竹东镇中兴路4段195号 |