发明名称 |
用于沉积一物质之制造设备及使用于其中之一电极 |
摘要 |
本发明系关于一种用于将一物质沉积于一载体上之制造设备及一种供该制造设备使用之电极。通常,该载体具有彼此间隔开之一第一端及一第二端。一插口安置于该载体之端中之每一者处。该设备包括一界定一腔室之外壳。至少一电极经安置成穿过该外壳以用于接纳该插口。该电极包括一界定一通道之内表面。藉由将电流直接通往该载体,该电极将该载体加热至所需要之沉积温度。一冷却剂与该电极之该通道流体连通以减小该电极之该温度。一通道涂层安置于该电极之该内表面中以用于防止该冷却剂与该内表面之间的热传递损失。 |
申请公布号 |
TWI470718 |
申请公布日期 |
2015.01.21 |
申请号 |
TW098112372 |
申请日期 |
2009.04.14 |
申请人 |
汉洛克半导体公司 美国 |
发明人 |
戴堤尔 麦斯;希拉布兰 大卫;克纳普 赛朵尔;麦寇伊 凯斯;莫纳 麦可 |
分类号 |
H01L21/67;H01L21/205;C23C16/54 |
主分类号 |
H01L21/67 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
一种供一制造设备使用之电极,该制造设备用以将一物质沉积于一载体上且使一冷却剂循环通过该电极,该电极包含:一轴,其具有彼此间隔开之一第一端及一第二端;一头部,其安置于该轴之该第二端上;该轴及该头部中之至少一者包括一界定一通道之内表面;一通道涂层,其安置于该内表面上以用于维持该电极与该冷却剂之间的热导率。 |
地址 |
美国 |