发明名称 一种通过清洗处理提高金属纳米线透明导电薄膜光学性质的方法
摘要 本发明公开了一种通过清洗处理提高金属纳米线透明导电薄膜光学性质的方法。步骤如下:(1)选择和制备保护剂溶液,根据金属纳米线薄膜选用的衬底类型和尺寸选择合适的涂膜设备,在金属纳米线薄膜表面涂覆一薄层的保护层;(2)选择与保护剂溶液互溶的清洗溶液,将涂覆了保护层的薄膜浸入其中清洗,根据保护层厚度确定清洗时间;(3)清洗后取出薄膜吹干或烘干使得薄膜表面剩余保护液固化。本发明方法处理的金属纳米线透明导电薄膜具有优异的薄膜稳定性和光学性质,并能够防止刮擦,通过3M胶带及铅笔刮擦测试。本发明方法适用于所有金属纳米线透明导电薄膜,操作简单,成本低,可用于大规模生产。
申请公布号 CN104299721A 申请公布日期 2015.01.21
申请号 CN201410453703.X 申请日期 2014.09.05
申请人 中国科学院合肥物质科学研究院 发明人 王可;何微微;冉云霞;季书林;叶长辉
分类号 H01B13/00(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I 主分类号 H01B13/00(2006.01)I
代理机构 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人 余成俊
主权项 一种通过清洗处理提高金属纳米线透明导电薄膜光学性质的方法,其特征在于包括以下步骤:    (1)选择和制备保护剂溶液,根据金属纳米线薄膜选用的衬底类型和尺寸选择合适的涂膜设备,在金属纳米线薄膜表面涂覆一薄层的保护层;    (2)选择与保护剂溶液互溶的清洗溶液,将涂覆了保护层的薄膜浸入其中清洗,根据保护层厚度确定清洗时间;    (3)清洗后取出薄膜吹干或烘干使得薄膜表面剩余保护液固化。
地址 230031 安徽省合肥市蜀山区蜀山湖路350号