发明名称 防蚀性光阻剥离剂组成物
摘要 本发明系藉由含有极性有机溶剂(A)、有机胺化合物(B)及由芳香族聚羟基化合物与糖类之组合所构成的防蚀剂(C)之防蚀性光阻剥离剂组成物,对铜及铝任一种,于广幅的温度范围或于水的存在与不存在的任一状况下,提供可表现优异防蚀效果的防蚀性光阻剥离剂组成物。
申请公布号 TWI470380 申请公布日期 2015.01.21
申请号 TW098137945 申请日期 2009.11.09
申请人 出光兴产股份有限公司 日本 发明人 山崎勇人;藤冈东洋藏
分类号 G03F7/42 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种防蚀性光阻剥离剂组成物,其系含有极性有机溶剂(A)、有机胺化合物(B)及由芳香族聚羟基化合物与糖类之组合所构成的防蚀剂(C)的防蚀性光阻剥离剂组成物,其特征系该极性有机溶剂(A)为选自醯胺系溶剂、二甲基亚碸(DMSO)、二乙二醇单丁基醚(BDG)所选出之一种以上,该有机胺化合物(B)为选自单乙醇胺、N-甲基乙醇胺及N,N-二甲基乙醇胺之1种以上,该防蚀剂(C)之一方之芳香族聚羟基化合物为以下述一般式(a)表示者,另一方的糖类为选自木糖醇、山梨糖醇、阿糖醇、甘露糖醇、葡萄糖及半乳糖之1种以上,且相对于前述极性有机溶剂(A)、有机胺化合物(B)及防蚀剂(C)之合计量,前述极性有机溶剂(A)之含量为20~98质量%、前述有机胺化合物(B)之含量为1~79质量%及前述防蚀剂(C)之含量为0.001~1质量%,Rm-Ar-(OH)n…(a)(式中,R系烷基或芳基,Ar系芳香族烃结构,m系0~4之整数,n系2~6之整数)。
地址 日本