蒸发源装置

摘要

本发明提供一种蒸发源装置，设于一真空腔室内，用于向一基板上蒸镀薄膜。蒸发源装置包括蒸发器和至少一升降器。蒸发器用于蒸发放置于其中的蒸镀材料，该蒸发器包括筒体和筒座。筒体固定安装于真空腔室，筒座可滑动地配合于筒体内壁。升降器连接于所述筒座，用于驱动所述筒座沿着筒体滑动。本发明中，蒸发器采用分体式结构，筒座能在升降器的带动下沿筒壁上下移动。随着蒸镀材料的使用，筒座逐渐上升，使蒸发器内的蒸镀材料与基板之间的距离大致保持不变，因此能够避免或减少蒸镀材料残留于蒸发器底部。因此，使用本发明的蒸发源装置，蒸镀材料利用率高。

主权项

一种蒸发源装置，设于一真空腔室内，用于向一基板上蒸镀薄膜，所述蒸发源装置包括：蒸发器，用于蒸发放置于其中的蒸镀材料，该蒸发器包括：筒体，固定安装于所述真空腔室内；以及筒座，可滑动地配合于所述筒体内壁；以及至少一升降器，连接于所述筒座，用于驱动所述筒座沿着所述筒体滑动。