| 发明名称 |
成膜装置及成膜方法 |
| 摘要 |
本发明系提供一种可将凝结负荷较大之排气系统之排气时间缩短，而谋求生产力提升之成膜装置及成膜方法。;一种将复数个基材同时成膜之成膜装置，其特征为具备：支撑单元50，具有以可绕着旋转轴自由旋转之方式支撑复数个基材2之支撑部55；真空槽10，具有以自由旋转之方式收容支撑单元50之圆筒状处理室14；成膜源57、60，配置在真空槽10内部；低温排气部21，具有与上部支撑构件52对向配置在真空槽10上面之低温凝结源21A；及辅助泵22。 |
| 申请公布号 |
TWI470111 |
申请公布日期 |
2015.01.21 |
| 申请号 |
TW097150181 |
申请日期 |
2008.12.23 |
| 申请人 |
爱发科股份有限公司 日本 |
发明人 |
林信博;小林洋介;齐藤隆雄;饭岛正行;多田勋 |
| 分类号 |
C23C16/54;C23C14/56;H01L21/20 |
主分类号 |
C23C16/54 |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼;陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼 |
| 主权项 |
一种成膜装置，系为将复数个基材同时成膜者，其特征为具备：支撑单元，具有：旋转轴、及以可绕着该旋转轴自由旋转之方式支撑前述复数个基材之支撑部；真空槽，具有以可绕着前述旋转轴自由旋转之方式收容前述支撑单元之处理室；成膜源，配置在前述真空槽之内部；及低温排气部，具有配置在前述真空槽上面之低温凝结源。 |
| 地址 |
日本 |
