发明名称 |
气体反应连续腔及气体反应方法 |
摘要 |
本发明提供一种气体反应连续腔以及使用该气体反应连续腔之气体反应方法,该气体反应连续腔包含有依序排列之一预热腔室、一反应腔室及一冷却腔室,各该腔室系位于二隔离装置之间,该等隔离装置使该等腔室能呈气密状态,一输送装置系位于该等腔室及隔离装置内,用以带动一受反应物移动进而通过该等腔室,该等腔室分别设置用以朝向受反应物之顶面作用而调整其温度之上加热器,反应腔室及冷却腔室分别具有一反应气体输入口;藉此,本发明可使受反应物进行气体反应且具有良好之效率。 |
申请公布号 |
TWI470105 |
申请公布日期 |
2015.01.21 |
申请号 |
TW102119657 |
申请日期 |
2013.06.03 |
申请人 |
生阳新材料科技有限公司 萨摩亚 |
发明人 |
曾昭隆;廖科峰;邱文鼎;赵子铭;黄世壬;汪宇炎;黎胜;何文福;赵 亨文 |
分类号 |
C23C14/56 |
主分类号 |
C23C14/56 |
代理机构 |
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代理人 |
吴宏亮 台中市南屯区永春东一路549号3楼;刘绪伦 台中市南屯区永春东一路549号3楼 |
主权项 |
一种气体反应连续腔,包含有:至少三腔室及至少四隔离装置,各该腔室系位于二该隔离装置之间,藉以使该等腔室能呈气密状态;以及一输送装置,系位于该等腔室及该等隔离装置内,该输送装置具有一前端、一后端以及能供该隔离装置穿过之至少四空隙,该输送装置系用以设置一受反应物,并带动该受反应物朝向该前端移动进而通过该等腔室;其中,该等腔室包含有依序排列之一预热腔室、一反应腔室及一冷却腔室,该预热腔室、该反应腔室及该冷却腔室分别设置一位于该输送装置上方之上加热器,用以朝向该受反应物之一顶面作用而调整该受反应物之温度,该反应腔室及该冷却腔室分别具有一反应气体输入口。 |
地址 |
萨摩亚 |