包括通过投影光学装置的光操纵的依赖图案的邻近匹配/调节

摘要

本发明公开了包括通过投影光学装置的光操纵的依赖图案的邻近匹配/调节。此处描述的是匹配光刻投影设备与参考光刻投影设备的特性的方法，其中所述匹配包括优化投影光学装置特性。投影光学装置可以用于对光刻投影设备中的波前成形。根据此处的实施例，所述方法可以通过利用使用传递交叉系数的偏导数的泰勒级数展开或线性拟合算法加快所述方法。

主权项

一种用于调节光刻过程至参考光刻过程的方法，所述光刻过程配置成使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像到衬底上，所述光刻投影设备包括照射源和投影光学装置，所述方法包括步骤：定义多个设计变量的多变量成本函数，所述设计变量代表了所述光刻过程的特性，其中所述成本函数代表了在所述光刻过程和所述参考光刻过程之间的光刻响应的差别，其中所述设计变量中的至少一些设计变量包括所述投影光学装置的特性；和通过调整包括所述投影光学装置的特性的设计变量重新配置所述光刻过程的特性，直到预定的终止条件被满足为止，其中所述设计变量中的一个或更多个是所述照射源的特性。