| 摘要 |
Способ снижения омического сопротивления индиевых микроконтактов с помощью термического отжига на полупроводниковых пластинах с матрицами БИС считывания или фотодиодными матрицами, включающий формирование металлического подслоя под индий, формирование защитной фоторезистивной маски с окнами в местах микроконтактов, напыление слоя индия, изготовление индиевых микроконтактов одним из способов:- удалением защитной маски со слоем индия вокруг микроконтактов (метод взрыва),- формированием маски для травления на слое индия с последующим травлением слоя одним из известных способов (химическое травление, ионное травление) с последующим удалением слоев фоторезиста,отличающийся тем, что после формирования системы микроконтактов проводится отжиг структур в восстанавливающей атмосфере или вакууме при температуре не менее 240°C в течение 30 мин. |
