发明名称 マスク
摘要 本発明は、マスク、マスクの製造方法、光照射装置、光照射方法及び整列された光配向膜の製造方法に関するもので、本発明マスクを使用すれば、被照射体の表面に直進性が優れた光を均一な照度で照射することができる。また、本発明のマスクは、例えば、被照射体が曲面の場合にも効率的に光を照射することができる。【選択図】図1
申请公布号 JP2015501949(A) 申请公布日期 2015.01.19
申请号 JP20140544680 申请日期 2012.12.03
申请人 エルジー・ケム・リミテッド 发明人 シン、ブ ゴン
分类号 G02B5/30;G02F1/13363;G02F1/1337 主分类号 G02B5/30
代理机构 代理人
主权项
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