| 发明名称 |
包含胺甲酸酯成分之光阻剂;PHOTORESISTS COMPRISING CARBAMATE COMPONENT |
| 摘要 |
本发明系提供新颖之光阻剂组成物，其包括含有：1)胺甲酸酯基团；以及2)酯基团之胺甲酸酯化合物。本发明之较佳光阻剂可包括：含有酸不稳定基团之树脂；酸产生剂化合物；以及胺甲酸酯化合物，其可作用于减少多余的光产生酸扩散出光阻剂涂覆层上未曝光之区域。; an acid generator compound; and a carbamate compound that can function to decrease undesired photogenerated-acid diffusion out of unexposed regions of a photoresist coating layer. |
| 申请公布号 |
TW201502707 |
申请公布日期 |
2015.01.16 |
| 申请号 |
TW103118950 |
申请日期 |
2014.05.30 |
| 申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司 |
发明人 |
威廉三世 威廉;刘琮;徐承柏 |
| 分类号 |
G03F7/039(2006.01);C08K5/3415(2006.01);C08K5/3432(2006.01);C08K5/205(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/039(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
洪武雄陈昭诚 |
| 主权项 |
|
| 地址 |
美国 |
