发明名称 |
装置、适用于感光装置之电晶体元件之形成方法与位于感光元件阵列物内之偏压元件;DEVICE, METHOD FOR FORMING A TRANSISTOR DEVICE TO BE USED IN ASSOCIATION WITH A PHOTO-SENSITIVE DEVICE, AND PICKUP DEVICE WITHIN AN ARRAY OF PHOTO-SENSITIVE DEVICES |
摘要 |
一种装置,包括:一元件隔离区,形成于一半导体基板内,该元件隔离区具有复数个缺口;一或多个感光元件,位于该些缺口内;一假闸极结构,形成于该半导体基板上;一掺杂偏压区,形成于该元件隔离区内,其中该假闸极结构包括部分地环绕该掺杂偏压区之至少一结构;以及一介层物,连结于该掺杂偏压区。 |
申请公布号 |
TW201503333 |
申请公布日期 |
2015.01.16 |
申请号 |
TW103120136 |
申请日期 |
2014.06.11 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
高敏峰;杨敦年;刘人诚;许慈轩;陈思莹;徐伟诚;曾晓晖 |
分类号 |
H01L27/14(2006.01);H01L21/28(2006.01) |
主分类号 |
H01L27/14(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
洪澄文颜锦顺 |
主权项 |
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地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |